导师现在是西门子EDA

用于后磁带流的新型处理平台

随着对后磁带的计算要求（PTO）流量增加，计算工具也需要缩放。使用设计层次结构有帮助，但随着数据通过PTO流处理，其...

从设计到工厂的机器学习减少系统缺陷

本文介绍了机器学习和计算光刻方法，以识别和消除设计中的产量限制模式，提高掩模生成的精度，蚀刻和抗蚀剂建模......

多光束掩模光刻的掩模过程校正验证

在本文中，我们使用现有的经过验证的掩模流程与新的MBMW系统结合使用现有的MPC校准和验证的全周期。

自动分类图案掩模缺陷

图案化掩模需要在晶圆制造工厂的保证，以查找和修复随时间发展的缺陷。不可用的布局数据使识别不同模式的任务复杂化......

组合光学规则检查热点检测

Calible Fab解决方案

Calibre Exiting Engineering Solutions将跨越设计的数据源与Fab Ecosystem一起带来，以实现高级收益率诊断，根本原因分析和主动设计和过程指导。

证明预测设计和过程见解

斜坡新产品制造的成功取决于许多因素。口径工具使用基于ML的布局分析技术，实现设计和制造信息的有效连接......